一般セッション(口頭講演)
13 半導体 » 13.7 化合物及びパワーデバイス・プロセス技術・評価
09:00 〜 09:15
〇前田 拓也1、江間 研太郎2、佐々木 公平2 (1.東大院工、2.ノベルクリスタルテクノロジー)
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09:15 〜 09:30
〇有馬 潤1、藤田 実1、川崎 克己1、平林 潤1 (1.TDK)
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09:30 〜 09:45
〇高塚 章夫1、宮本 広信1、佐々木 公平1、倉又 朗人1 (1.ノベルクリスタルテクノロジー)
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09:45 〜 10:00
〇大槻 匠1、上村 崇史1、東脇 正高1,2 (1.情通機構、2.大阪公立大院工)
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10:00 〜 10:15
〇武田 大樹1、女屋 崇2、生田目 俊秀3、喜多 浩之1,2 (1.東大院工、2.東大院新領域、3.物材機構)
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10:30 〜 10:45
〇脇本 大樹1、林 家弘1、ティユ クァン トゥ1、宮本 広信1、佐々木 公平1、倉又 朗人1 (1.ノベルクリスタルテクノロジー)
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10:45 〜 11:00
〇松本 翼1、佐藤 解1、中村 勇斗1、Traore Aboulaye2、牧野 俊晴3、加藤 宙光3、小倉 政彦3、市川 公善1、林 寛1、猪熊 孝夫1、山崎 聡1、德田 規夫1 (1.金沢大、2.筑波大、3.産総研)
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11:00 〜 11:15
サハ ニロイ チャンドラ1、白土 智基1、金 聖祐2、小山 浩司2、大石 敏之1、〇嘉数 誠1 (1.佐賀大院工、2.Orbray（株）)
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11:15 〜 11:30
サハ ニロイ チャンドラ1、白土 智基1、金 聖祐2、小山 浩司2、大石 敏之1、〇嘉数 誠1 (1.佐賀大院工、2.Orbray（株）)
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