[15a-PA01-1~56] 17 Nanocarbon Technology (Poster)

[15a-PA01-43] Vapor phase chemical etching of silicon assisted by MoS₂ nanosheets

〇(M1)Kaichi Yamamoto¹, Wataru Kubota¹, Toru Utsunomiya¹, Takashi Ichii¹, Hiroyuki Sugimura¹ (1.Kyoto Univ.)

Keywords:silicon, molybdenum disulfide, assisted chemical etching

シリコン表面加工法の一つとして，貴金属や炭素材料を触媒とするアシストエッチングが注目されている．当研究室では二次元炭素材料の酸化グラフェンを触媒としたアシストエッチングを報告してきた．本研究では新たな触媒材料探索とアシストエッチングの反応機構解明を目的として，代表的な層状遷移金属ダイカルコゲナイドであるMoS₂のナノシートを用いたアシストエッチングを行った．