The 70th JSAP Spring Meeting 2023

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Oral presentation

15 Crystal Engineering » 15.6 Group IV Compound Semiconductors (SiC)

[15p-A301-1~13] 15.6 Group IV Compound Semiconductors (SiC)

Wed. Mar 15, 2023 1:00 PM - 4:45 PM A301 (Building No. 6)

Takeshi Mitani(AIST), Hirokuni Asamizu(ローム)

1:45 PM - 2:00 PM

[15p-A301-4] Effect of macrostep height on formation of solvent inclusion in SiC solution growth

Yuma Fukami1, Zhou Huiqin1, Takemoto Hisaki1, Dang Yifan1, Harada Shunta1, Tagawa Miho1, Ujihara Toru1 (1.Nagoya Univ.)

Keywords:SiC, crystal growth, solvent inclusion

SiC 溶液成長法においてはマクロステップの進展により、貫通転位が基底面方向の転位に変換し、成長とともに基底面に沿って転位は結晶外へと掃き出される。一方で、マクロステップが過剰に発展すると、ステップ形状が不安定化し溶媒が結晶中に取り込まれる(インクルージョン)。本研究では、ステップ高さがインクルージョンの形成に及ぼす影響を調べた。