2023年第70回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[15p-A409-1~11] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2023年3月15日(水) 13:00 〜 16:00 A409 (6号館)

上野 和紀(東大)

15:15 〜 15:30

[15p-A409-9] ミスカット基板上に作製したダブルペロブスカイト型酸化物薄膜の物性

〇(M2)南野 龍樹1、相馬 拓人1、大友 明1 (1.東工大物質理工)

キーワード:薄膜、ダブルペロブスカイト

金属酸化物のエピタキシャル薄膜におけるドメイン構造は,物性に大きな影響を与え得るため,その制御は重要である.ミスカット基板を用いることで薄膜成長にナノスケールのドメイン構造を意図的に導入することができる.室温ハーフメタルフェリ磁性体であり,Bサイトが自発的に秩序配列するSr2FeMoO6をミスカット基板上に成長し,Bサイト秩序が低下したことを報告する.