[15p-B309-1~19] 8.1 Plasma production and diagnostics

△ [15p-B309-17] Reactive negative ion generation using microwaves

〇(M1)Takuto Tomotsu¹, Wataru Okauchi¹, Chikara Katsuki¹, Tensei Tanba¹, Ryoya Horie¹, Haruhiko Himura¹, Akio Sanpei¹ (1.Kyoto Inst. of Tech.)

Keywords:Negative Ion, Plasma

半導体製造において、プラズマプロセスは一般的に用いられてきている。しかし、プロセスの微細化に伴い、高エネルギーイオンの制御の困難性が顕在化している。そこで我々は、プラズマソースから特定の反応性負イオンを引き出し、偏向・減速することで、負イオンのみを低速で反応させる新しいプロセス方式の検証実験装置の開発を進めている。本発表で、その装置での負イオン生成及び生成量のオペレーション依存性について報告する。