2023年第70回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[15p-B410-1~15] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2023年3月15日(水) 13:00 〜 17:30 B410 (2号館)

曽根 正人(東工大)、居村 史人(Hundred Semiconductors)

14:45 〜 15:00

[15p-B410-7] Si薄膜のレーザ結晶化における線状Agglomeration

佐々木 伸夫1,2、高山 智之2、笹井 陸杜2、浦岡 行治2 (1.Sasaki Consulting、2.NAIST)

キーワード:無結晶粒界の薄膜、continuous-wave レーザー、凝集

Si 薄膜のCWレーザ結晶化(CLC)において、(100) 配向無粒界結晶成長のための最適値よりも大きなレーザパワー条件で、直線的形状のagglomeration が発生することを見出した。