[15p-PA02-1~12] 8 Plasma Electronics (Poster)

[15p-PA02-3] Numerical analysis of power dependence on properties of low-pressure Ar/CH₄ plasma for effective utilization of raw material gas

〇(B)Takuya Ishihara¹, Shun Sasaki¹, Akinori Oda¹, Hiroyuki Kousaka² (1.Chiba Inst. Technol., 2.Gifu Univ.)

Keywords:low-pressure plasma, numerical analysis, exhaust gas

現在の薄膜形成でのプラズマプロセスにおける課題として，工業分野では廃棄されるガス中に温室効果ガスであるCH₄が含まれていることや，半導体産業分野では半導体製造時の消費電力の高さが挙げられている．そのため，低電力でプラズマを生成し，温室効果ガスの排気量を抑えたプラズマプロセスが求められている．本研究では，投入電力の変化による排気ガスと電極への入射粒子についての影響を解析したので報告する．