[15p-PA02-1~12] 8 プラズマエレクトロニクス（ポスター）

[15p-PA02-3] 原料ガスの有効利用を目的とした低圧Ar/CH₄のプラズマ特性に及ぼす投入電力依存性の数値解析

〇(B)石原 卓也¹、佐々木 瞬¹、小田 昭紀¹、上坂 裕之² (1.千葉工大工、2.岐阜大工)

キーワード：低圧プラズマ、数値解析、排気ガス

現在の薄膜形成でのプラズマプロセスにおける課題として，工業分野では廃棄されるガス中に温室効果ガスであるCH₄が含まれていることや，半導体産業分野では半導体製造時の消費電力の高さが挙げられている．そのため，低電力でプラズマを生成し，温室効果ガスの排気量を抑えたプラズマプロセスが求められている．本研究では，投入電力の変化による排気ガスと電極への入射粒子についての影響を解析したので報告する．