[16a-D519-1~14] CS.1 Code-sharing Session of 2.3 & 7.4 &7.5

[16a-D519-5] Low-temperature Au nanowire growth by ion beam sputtering of Si followed by thermal evaporation of Au

〇(B)Keita Nishihata¹, Hitomi Mizutani¹, Katsumi Takahiro¹ (1.Kyoto Inst. Tech.)

Keywords:nanowire, ion beam, sputter deposition

我々は、Siスパッタ蒸着により非晶質Siを基板上に作製後、Auを蒸着することで、Au NWsが成長することを見出した。Siのイオンビームスパッタを用いると、任意の基板上に非晶質Siを堆積可能であるため、多種類の基板にAu NWsを作製することができる。本研究では、イオンビームスパッタにより、種々の基板に非晶質Siを堆積後、Auを真空蒸着することで、Au NW成長に対する基板依存性を検討した。