[16p-A304-1~13] 13.9 Compound solar cells

[16p-A304-5] Fabrication SnS thin film using sputtering method with PGS cathode

〇Taichi Nogami¹, Issei Suzuki¹, Takahisa Omata¹ (1.Tohoku Univ.)

Keywords:tin sulfide, sputtering deposition

硫化スズ(SnS)は、安価で安全な薄膜太陽電池材料として期待されている。本研究では、圧力勾配式カソードを用いたRFスパッタリング法により、高効率な素子のベースとなるSnS薄膜の作製に取り組んだ。
従来のスパッタリング法で作製した場合、疎に米粒状の粒子が堆積したが、PGSモードでは高密度に柱状結晶が成長した。圧力勾配式カソードを用いることで、太陽電池に適した高密度な薄膜を得られることが示された。