The 70th JSAP Spring Meeting 2023

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Oral presentation

15 Crystal Engineering » 15.4 III-V-group nitride crystals

[16p-B401-1~13] 15.4 III-V-group nitride crystals

Thu. Mar 16, 2023 1:00 PM - 5:45 PM B401 (Building No. 2)

Yoshio Honda(Nagoya Univ.), Hisashi Murakami(TUAT), Atsushi Yamaguchi(Kanazawa Inst. of Tech.)

5:15 PM - 5:30 PM

[16p-B401-12] Theoretical calculation of ±c GaN surface for understanding selective etching in alkali solution

Masatomo Sumiya1, Masato Sumita2 (1.NIMS, 2.RIKEN AIP)

Keywords:DF-MD, GaN surface oxidation, polarity

スピンを考慮した各GaN結晶表面の理論計算モデルを構築して密度半関数分子動力学計算(DF-MD)によってH2Oによる表面酸素状態の面方位依存性を解析した。H2Oに対して-c GaN表面で起こる化学吸着反応において、OH基が4配位に結合したGaのバックボンドに吸着して、反対側のNとの結合距離が大きくなることがDF-MD計算から示された。これはc面GaNの極性方向を判定する簡便なアルカリ溶液中での-c面選択エッチングを説明できる現象と考えたので報告する