[16p-D215-1~16] 11.5 接合，回路作製プロセスおよびデジタル応用

[16p-D215-6] ArF液浸露光装置を用いて大面積な超伝導量子回路を作製するための技術検討

〇大舘 暁¹、齋藤 直洋¹、鈴木 広介¹、青山 肇¹、塚本 宏之¹、楠山 幸一²、中村 泰信^2,3 (1.ニコン、2.理研、3.東大)

キーワード：超伝導回路

近年の量子ビット数の増大に伴い、大規模な量子回路の作製方法の開発競争がはじまりつつある。我々はArF液浸露光機を用いて12インチ基板上に大規模な超伝導量子回路を作製する方法の開発に着手しています。その開発の途中経過を説明いたします。