10:30 〜 10:45
[17a-B309-7] ラマン分光法の裏面適用によるプロセス中のグラフェン膜質評価
キーワード:ラマン分光法、グラフェン
デバイスプロセス過程におけるグラフェンの結晶性の評価方法として、SiC基板上にエピタキシャル成長させた高品質グラフェンに適用可能な基板裏面からのラマン分光計測法の考案、GFETゲートスタックプロセスに対する有効性の実証、及びプロセス選定の実験的考察。
一般セッション(口頭講演)
17 ナノカーボン » 17.2 グラフェン
2023年3月17日(金) 09:00 〜 11:30 B309 (2号館)
保田 諭(原子力機構)
10:30 〜 10:45
キーワード:ラマン分光法、グラフェン