[17a-B414-1~7] 17.3 層状物質

[17a-B414-1] スパッタWS₂膜へのCl₂プラズマ処理によるシート抵抗低減

〇(B)黒原 啓太¹、今井 慎也¹、冨谷 茂隆¹、辰巳 哲也¹、若林 整¹ (1.東工大)

キーワード：遷移金属ダイカルコゲナイド、プラズマ処理、スパッタリング

熱電デバイス応用について、TMDC膜が注目されている。代表的なTMDCであるWS₂膜において、塩素などの化学ドーピングによるn型化が報告されているが、熱的不安定性が懸念される。そこで、WS₂膜に塩素プラズマ処理を施し熱的に安定なドーピングを行った。その評価としてシート抵抗の測定を行った。塩素プラズマ処理を行ったものは、行っていないものと比べシート抵抗は約1/2に低減した。