09:45 〜 10:00
△ [17a-B414-4] 表面偏析によるBi 薄膜化を利用したBi/Au コンタクトWSe2 FET のp型動作
キーワード:遷移金属ダイカルコゲナイド、フェルミレベルピニング、表面偏析
Bi/Au二層系の表面偏析をWSe2ショットキーFET動作に応用した。厚いBi膜でAu蒸着の熱ダメージを抑制し、蒸着後アニールを施して表面偏析によりBi膜厚を薄くした。それによりFETの特性を強いn型から両極特性に変化させた。
一般セッション(口頭講演)
17 ナノカーボン » 17.3 層状物質
2023年3月17日(金) 09:00 〜 10:45 B414 (2号館)
毛利 真一郎(立命館大)
09:45 〜 10:00
キーワード:遷移金属ダイカルコゲナイド、フェルミレベルピニング、表面偏析