[17a-PA05-1~7] 16.3 シリコン系太陽電池

[17a-PA05-4] MPATでのSiウェハ表面の異方性エッチングにおける薬液の回転速度によるテクスチャサイズの変化

〇(M1)Yang Pengyu¹、Huynh Thi Cam Tu¹、大平 圭介¹ (1.北陸先端大)

キーワード：ピラミッドテクスチャ、エッチング、ガラス ビーズ

Si基板上に形成するテクスチャの細微化と均一化を目的として、ガラスビーズを用いるmicroparticle-assisted texturing (MPAT)でのアルカリ溶液の回転速度の影響を調査した。回転速度250 rpmでのエッチングでは、2.5 μmを越えるテクスチャが多く含まれるSi表面が得られた。これに対し、回転速度1000 rpmでのエッチングでは、2.5 μm以上のテクスチャはほとんど見られず、1 μm未満の微小テクスチャが支配的な表面が形成された。