2023年第70回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

8 プラズマエレクトロニクス » 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[17p-A205-1~18] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

2023年3月17日(金) 13:00 〜 17:45 A205 (6号館)

唐橋 一浩(阪大)、藤崎 寿美子(日立製作所)

14:00 〜 14:15

[17p-A205-5] プラズマ処理の長期保持技術の応用:撥水処理

田口 貢士1、富川 弥奈1、山原 基裕1、登尾 一幸1 (1.株式会社魁半導体)

キーワード:プラズマ、自己組織化単分子膜、撥水

静的・動的撥水性の需要がある中で、前発表のSAM技術を用いて表面状態の制御が可能かを模索した。SAM原料として、フッ素系やアルキル系を用いて動的表面の特性と静的表面の特性を制御した。
当日、撥水性を持つサンプル表面の物性変化、組成や構造変化、撥水条件の関係性の詳細を発表にて議論する。