[17p-A405-1~14] 3.6 Laser processing (formerly 3.7)

△ [17p-A405-1] Microstructure, LIPSS, Formed on Si Substrate Using Free Electron Laser Irradiation

〇(M1)Youta Hoshino¹, Nohira Masayoshi¹, Iwata Nobuyuki¹ (1.Nihon Univ.)

Keywords:LIPSS, Free Electron Laser

近赤外自由電子レーザ照射によってLIPSSの形成を試みた。FELをSi基板に集光照射し実験を行った。非線形結晶により発生させた第2次高調波900nm~1200nmの条件で照射領域内部に波長よりも短い間隔を持つLIPSSの形成に初めて成功した。波長900nmでは間隔690nm,波長1100nmでは間隔860nm,波長1200nmでは間隔970nmと波長に比例して構造の間隔が広くなっていることが新たに分かった。詳細は発表で報告する。