2023年第70回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション

[17p-B414-1~15] 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション

2023年3月17日(金) 13:00 〜 17:00 B414 (2号館)

嵯峨 幸一郎(ソニー)、森 伸也(阪大)、田中 一(阪大)

13:00 〜 13:15

[17p-B414-1] 平板上で相対運動するPVAブラシノジュールの変形及び接触軌跡解析

〇(M1C)鈴木 翔大1、水嶋 祐基1、濱田 聡美2、小篠 諒太2、福永 明2、真田 俊之1 (1.静大工、2.荏原製作所)

キーワード:CMP後洗浄、PVAブラシ

本研究では,post-CMP洗浄に用いられるPVAブラシ洗浄の効率化に向け,PVAブラシが表面に接触し変形するの際のブラシからの液体の移動に着目し検討を行った.実験では鉛直軸を中心に回転するウェハ上で,水平軸を中心に回転するブラシの相対運動を再現し,ブラシとウェハ接触時のブラシ変形及び接触軌跡を解析した.