[17p-PA02-1~8] 1.3 Novel technologies and interdisciplinary engineering

[17p-PA02-7] XPS analysis of surface of the electron beam resist SML irradiated with O₂ plasma

〇Miho Fujimoto¹, Akihiro Matsutani¹ (1.Tokyo Tech.)

Keywords:electron beam lithography, plasma, SML

電子線レジストSMLはポリメタクリル酸メチル（PMMA）を骨格とするポジ型電子線レジストである。これまでに我々は、電子線露光前に酸素プラズマを照射することでSMLレジストに増感効果が生じることを報告した。本報告では、酸素プラズマ照射前後におけるSML表面のXPS分析を行ったので報告する。