[18a-D215-1~8] 1.3 新技術・複合新領域

[18a-D215-5] ALD法によるAl₂O₃ナノ構造を利用した放熱構造の試作と評価

〇禹 泰圭¹、辻 祐樹¹、林 翔平¹、森 智衆¹、伊佐早 祐大¹、前田 讓治¹、板谷 太郎²、天野 建² (1.東京理科大学、2.産業技術総合研究所)

キーワード：原子層堆積法、ナノ構造、放熱構造

近年、半導体デバイスは微細化技術により、更なる高集積化と高性能化が進められている。一方で、高集積化に伴う発熱密度の増加やパッケージの小型化による温度上昇が懸念されている。本研究では、原子層堆積法で成膜したAl₂O₃薄膜を熱水処理することによって得られるナノ構造にPt薄膜を成膜し、放熱構造を試作した。ナノ構造が形成されることで表面積が増大し、放熱特性の向上が見込まれる。