[18p-A401-1~13] 23.1 合同セッションN「インフォマティクス応用」

[18p-A401-12] 機械学習を活用したCr-Si-N薄膜の抵抗温度係数最適化

〇(M2)木村 武史¹、相田 彩花²、原 浩之²、秋池 良²、召田 雅実²、小林 成¹、田村 亮^3,4、清水 亮太¹、一杉 太郎^1,5 (1.東工大物質理工、2.東ソー(株)、3.物材機構、4.東大院新領域、5.東大院理)

キーワード：ガウス過程回帰