スケジュール 2 11:40 〜 11:55 [2-52A] セラミックススラリーおよび成形体の外場印加による内部構造変化のOCTその場観察 *多々見 純一1,2、高橋 拓実2 (1. 横浜国立大学、2. 神奈川県立産業技術総合研究所) キーワード：光コヒーレンストモグラフィー、セラミックス、応力場、磁場 抄録パスワード認証抄録の閲覧にはパスワードが必要です。パスワードを入力して認証してください。 パスワード 認証
