スケジュール 0 13:30 〜 13:45 [2-54A] ターゲット方式AGDによるアルミナ絶縁膜の形成（その３） *渕田 英嗣1、谷本 久典2、目 義雄3 (1. 有限会社渕田ナノ技研、2. 筑波大学、3. 物質・材料研究機構) キーワード：セラミックスの常温成膜技術、ナノ構造、エアロゾル化ガスデポジション、プラズマ、スパッタ 抄録パスワード認証抄録の閲覧にはパスワードが必要です。パスワードを入力して認証してください。 パスワード 認証
