講演情報

講演特集：磁性材料・磁気デバイスにおける微細構造制御と機能発現

講演特集：磁性材料・磁気デバイスにおける微細構造制御と機能発現

2019年6月5日(水) 14:45 〜 16:00 第Ⅰ会場 (３F、多目的ホール)

座長:高木健太 (産業技術総合研究所)

15:30 〜 15:45

[1-34A] スピンスプレー法で作製したNiフェライト膜の磁気特性に対するNi置換量依存性

^○島田和弥¹、林懐恩¹、久保田雄太¹、岸哲生¹、矢野哲司¹、松下伸広¹ (1. 東京工業大学)

キーワード：フェライト、溶液プロセス、高周波ノイズ抑制

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