XFEL/X(分光・蛍光)/X(XAFS)/産業利用/その他

[11D1] X(XAFS)

2025年1月11日(土) 09:00 〜 10:15 D会場 (中会議室202)

座長:木村正雄

09:00 〜 09:15

[11D1-01] オージェ収量法による表面敏感XAFS測定

*飯原順次¹、徳田一弥¹、山口浩司¹、後藤和宏¹ (1. 住友電気工業株式会社)

09:15 〜 09:30

*山﨑大雅^1,2、岩満一功³、島田大河¹、澤田正博⁴、原正大⁵、赤井一郎⁶ (1. 熊大院自然、2. JSPS特別研究員DC、3. 奈良先端大、4. 広大放射光科学研究セ、5. 熊大院先端科学、6. 熊大産ナノ研)

09:30 〜 09:45

*林駿佑¹、片上舜²、岡島敏浩³、岡田真人² (1. 東京大学大学院理学系研究科物理学専攻、2. 東京大学大学院新領域創成科学研究科、3. あいちSR)

09:45 〜 10:00

*阪東恭子¹、小平哲也¹、久保利隆¹、阿部仁²、魯邦³、高草木達³ (1. 産業技術総合研究所、2. 物質構造科学研究所、3. 北海道大学)

10:00 〜 10:15

*松井公佑¹、五十嵐羽奏¹、宇留賀朋哉²、唯美津木¹ (1. 名古屋大学、2. JASRI/SPring-8)