[3P01-27] ポスター・企業展示

[3P13S] 光電子ホログラフィーによる黒リンの表面構造解析

*富田 広人¹、黒田 健太²、橋本 由介¹、田中 晶貴¹、竹内 走一郎¹、古賀 峻丞¹、孫 澤旭¹、田中 宏明²、近藤 猛²、高橋 敬成³、笹川 崇男³、松下 智裕¹ (1. 奈良先端科学技術大学院大学、2. 東京大学物性研究所、3. 東京工業大学フロンティア材料研究所)

二次元層状物質である黒リンは次世代ナノデバイス材料として注目されている。DFT計算により黒リン表面近傍の緩和の可能性が報告されているが、その表面構造は十分理解されていないと思われる。本研究では光電子ホログラフィーを用いて黒リンの構造解析を行い、実験像とシミュレーションとの比較を行うことで、表面緩和の観測を試みた。