Next Generation Gate-all-around Device Design for Continued Scaling Beyond 2nm Logic Node

講演情報

Oral

2023年9月27日(水) 15:20 〜 17:00 Hall A

Chair: Sung-Min Hong (Gwangju Inst. of Sci. and Tech.), Takahiro Iizuka (Hiroshima Univ.)

15:40 〜 16:00

*Pratik B Vyas¹, Charisse Zhao¹, Sefa Dag¹, Ashish Pal¹, El Mehdi Bazizi¹, Buvna Ayyagari-Sangamalli¹ (1. Applied Materials Inc)

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