Modeling Oxide Regrowth During Selective Etching in Vertical 3D NAND Structures

講演情報

Oral

2023年9月27日(水) 15:20 〜 17:00 Hall B

Chair: Nobuhiko Nakano (Keio Univ.), Junichi Hattori (AIST)

16:20 〜 16:40

*Tobias Reiter¹, Alexander Toifl², Andreas Hössinger², Lado Filipovic¹ (1. TU Wien, Inst. for Microelectronics, 2. Silvaco Europe Ltd.)

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