[F-8-3] Optimization of Ring Type Electrode Process for High Density PRAM

K. C. Ryoo, Y. J. Song, D. H. Kang, C. W. Jeong, J. H. Kong, J. H. Oh, D. W. Lim, S. S. Park, J. I .Kim, J. H. Kim, J. H. Park, Y. T .Oh, J. S. Kim, J. M. Shin, J. H. Park, K. W. Lee, Y. Fai, G. H. Koh, G. T. Jeong, H. S. Jeong, Kinam Kim (1.Advanced Technology Development, Semiconductor R&D Div., Samsung Electronics Co., Ltd)

https://doi.org/10.7567/SSDM.2006.F-8-3