[F-8-3] Optimization of Ring Type Electrode Process for High Density PRAM

K. C. Ryoo、Y. J. Song、D. H. Kang、C. W. Jeong、J. H. Kong、J. H. Oh、D. W. Lim、S. S. Park、J. I .Kim、J. H. Kim、J. H. Park、Y. T .Oh、J. S. Kim、J. M. Shin、J. H. Park、K. W. Lee、Y. Fai、G. H. Koh、G. T. Jeong、H. S. Jeong、Kinam Kim (1.Advanced Technology Development, Semiconductor R&D Div., Samsung Electronics Co., Ltd)

https://doi.org/10.7567/SSDM.2006.F-8-3