X-ray photoelectron spectroscopy study of dipole effects at HfO<sub>2</sub>/SiO<sub>2</sub>/Si stacks

2009 International Conference on Solid State Devices and Materials

2009年10月6日〜 2009年10月9日
Sendai Kokusai Hotel, Miyagi, Japan

L. Q. Zhu¹、K. Kita¹、T. Nishimura¹、K. Nagashio¹、S. K. Wang¹、A. Toriumi¹ (1.Univ. of Tokyo)