[P-2-8] Raman Spectroscopic Metrology for Stress measurement in Semiconductor Device Development and Process

N. Naka¹, S. Kashiwagi¹, K. Ohtsuki¹, J. H. Kim², C. H. Lee², S. T. Ahn², K. H. Bae², H. W. Yoo², C. H. Kim² (1.HORIBA, Ltd.(Japan), 2.Hynix Semiconductor Inc.(Korea))

https://doi.org/10.7567/SSDM.2009.P-2-8