Ferroelectric-Gate Thin-Film Transistor Fabricated by Total Solution Deposition Process

2010 International Conference on Solid State Devices and Materials

2010年9月21日〜 2010年9月24日
The University of Tokyo, Tokyo, Japan

T. Miyasako¹、B. N. Q. Trinh¹、T. Kaneda¹、M. Onoue¹、P. T. Tue³、E. Tokumitsu^1,2、T. Shimoda^1,3 (1.JST、2.Tokyo Tech、3.JAIST , Japan)