Defect-free GaAs/AlGaAs Heterostucture Etching Process by Chlorine/Argon Mixed Gas Neutral Beam

2010 International Conference on Solid State Devices and Materials

2010年9月21日〜 2010年9月24日
The University of Tokyo, Tokyo, Japan

X. Y. Wang^1,3、C. H. Huang^1,3、Y. Ohno^1,3、M. Igarashi^1,3、A. Murayama^2,3、S. Samukawa^1,3 (1.Tohoku Univ.、2.Hokkaido Univ.、3.CREST-JST , Japan)