2010 International Conference on Solid State Devices and Materials

2010年9月21日〜 2010年9月24日
The University of Tokyo, Tokyo, Japan

[P-7-22] Migration-limited relaxation in Er_xY_2-xSiO₅ crystals

T. Nakajima¹、T. Kimura¹、H. Isshiki¹ (1.Univ. of Electro-Communications , Japan)

https://doi.org/10.7567/SSDM.2010.P-7-22

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