[PS-3-2] Effects of Rutile TiO2 Interlayer on HfO2/Ge MOS Structure K. Kobashi1,2、T. Nagata2、T. Nabatame2、Y. Yamashita2、A. Ogura1、T. Chikyow2 (1.Meiji Univ.、2.NIMS (Japan)) https://doi.org/10.7567/SSDM.2013.PS-3-2