PDF ダウンロード スケジュール 11 09:50 〜 10:00 [J401-3am-06] モノクロロおよびジクロロシランを用いた層状オクトシリケート層表面へのSi−H基の固定化 ○堀 暖奈1、野田 大貴1、彌富 昌1、小池 正和2、黒田 一幸1,2、下嶋 敦1,2 (1. 早大先進理工、2. 早大材研) [言語]日本語 キーワード:層状ケイ酸塩、シリル化、Si–H基