日本化学会 第103春季年会 (2023)

講演情報

アカデミックプログラム[A講演]

20. 材料化学―基礎と応用 » 口頭A講演

[K206-2vn] 20. 材料化学―基礎と応用【会場変更】K206→K501

2023年3月23日(木) 16:10 〜 18:50 K206 (講義棟 [2F] K206)

座長:山本 洋平、藤ヶ谷 剛彦

16:20 〜 16:30

[K206-2vn-02] フェノキシルイミダゾリルラジカル複合体を配位子としたフォトクロミックイリジウム錯体の創製

宮原 拓也1、岡安 祥徳1、永井 邑樹1、阿部 二朗2、小林 洋一1,3 (1. 立命館大、2. 青山学院大、3. JST さきがけ)

[言語]日本語

キーワード:フォトクロミズム、金属錯体、ビラジカル、熱消色型、過渡吸収