PDF ダウンロード スケジュール 13 10:30 〜 10:40 [K207-4am-09] 表面開始原子移動ラジカル重合による高分子修飾ZnOナノロッドの合成と配向評価 ○林 明日香1、中野 果穂1、相沢 美帆1,2、久野 恭平1、久保 祥一1、宍戸 厚1 (1. 東京工業大学、2. JSTさきがけ) [言語]日本語 キーワード:ナノロッド、高分子、配向、表面修飾、原子移動ラジカル重合