[K305-4pm] 08. 触媒

[K305-4pm-09] CeO₂担持Ni触媒によるベンジル位選択的脱水素シリル化反応

^○虞 晴¹、谷田部 孝文¹、松山 剛大¹、古森 将也¹、矢部 智弘¹、山口 和也¹ (1. 東京大学)

［言語］英語

キーワード：ベンジル位シリル化、C−H結合活性化、C(sp3)−H選択的、不均一系触媒