[P2-2am] 03. 物理化学―構造

[P2-2am-05] シリコン表面ナノ溝構造における赤外吸収増強の配列周期依存性

^○佐藤 栞¹、鈴木 裕史²、塩谷 暢貴³、下赤 卓史³、長谷川 健³、島田 透¹ (1. 弘大教育、2. 弘大理工、3. 京大化研)

［言語］日本語

キーワード：表面増強赤外吸収、多角入射分解分光、ナノ構造