09:00 〜 09:15
[103] 各種基板表面における二次元層状半導体MoS2の摩擦誘起成膜
キーワード:MoS2、二次元材料、MoDTC、潤滑膜
摩擦によるMoS2潤滑膜の生成反応を半導体デバイスプロセスへ応用することを目的とし、基板の種類がMoS2潤滑膜生成に及ぼす影響について調査する。
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一般講演
5.材料化学 » 表面・界面
2020年3月19日(木) 09:00 〜 16:40 C会場 (西3号館3階W331)
座長:中山 栄浩(山梨大学 大学院 総合研究部 工学域 機械工学系)、三浦 一真(新潟県工技総研)、森園靖浩(久留米高専)、山下 弘巳(大阪大学 大学院工学研究科 マテリアル生産科学専攻)、佐藤 一則(長岡技術科学大学)、八木俊介(東大)、森 浩亮(大阪大学)
09:00 〜 09:15
キーワード:MoS2、二次元材料、MoDTC、潤滑膜
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