[P] 5.材料化学

[P125] エピタキシャルCr(N,O)薄膜に内在する積層不整の定量評価

*岩崎 悠佑¹、中山 忠親¹、末松 久幸¹、鈴木 常生¹ (1. 長岡技術科学大学)

キーワード：Hard coating、Pulsed Laser Deposition、Chromium nitride、Epitaxial growth、Stacking faults

Cr(N,O)薄膜は積層不整を内在することにより高硬度化を実現した。積層不整の度合いを評価するため、酸素含有量が様々なエピタキシャルCr(N,O)薄膜のD5₁相をX線回折により評価した。