2013年第74回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

合同セッションK » 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[17p-B4-1~18] 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

2013年9月17日(火) 13:30 〜 18:15 B4 (TC2 1F-106)

17:30 〜 17:45

[17p-B4-16] 溶液プロセスで作製したアモルファスInZnO薄膜トランジスタ特性に対するバックチャネルの影響

長田至弘,石河泰明,呂莉,浦岡行治 (奈良先端大)

キーワード:酸化物半導体,液体プロセス,膜厚依存性