[19p-B4-1~21] 13.5 Siプロセス技術

[19p-B4-8] 極浅As注入層の再結晶化過程のホトルミネセンスによる分析

^○田川修治¹，山田章一郎¹，村井剛太¹，吉本昌広¹，Yoo Woo Sik² (京都工芸繊維大¹，WaferMasters²)

キーワード：シリコン,極浅接合,ホトルミネセンス