[29p-B1-1~20] 7.4 ナノインプリント

[29p-B1-13] △サブ100nmパターンを有する容積均一化モールドを使用する残膜の均一化に関する評価 (4:45 PM ～ 5:00 PM)

^○鈴木健太^1,2,3，尹成圓^2,3，王清^2,3，廣島洋^2,3，西岡泰城¹ (日大¹，産総研²，JST-CREST³)

キーワード：UVナノインプリント、残膜、容積均一化モールド