2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.2 絶縁膜技術

[19a-A17-1~12] 13.2 絶縁膜技術

2014年9月19日(金) 09:00 〜 12:30 A17 (E308)

12:15 〜 12:30

[19a-A17-12] Improvement of S-factor method for evaluation of MOS interface state density

○(D)蔡偉立1,2,竹中充1,2,高木信一1,2 (東大院工1,JST-CREST2)

キーワード:S factor method, interface state density