2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13．半導体A（シリコン） » 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[19p-A19-1~15] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

2014年9月19日(金) 14:00 〜 18:00 A19 (E311)

15:00 〜 15:15

[19p-A19-5] 銅配線用新規低温分解性フッ素フリー原料

須藤弘1，石川真人1，○町田英明1，Rasadujjaman Md2，近藤英一2 (気相成長1，山梨大2)

キーワード：銅配線,SFCD,低温分解