2014年第61回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.2 絶縁膜技術

[18a-D8-1~12] 13.2 絶縁膜技術

2014年3月18日(火) 09:00 〜 12:15 D8 (D215)

09:45 〜 10:00

[18a-D8-4] 共鳴核反応法を用いた水素分布測定および水素による絶縁膜劣化機構の詳細解析

東悠介1,高石理一郎1,鈴木正道1,加藤弘一1,富田充裕1,三谷祐一郎1,松本益明2,小倉正平2,福谷克之2 (東芝研開セ1,東大生産研2)

キーワード:絶縁膜信頼性